Su, Huan
  Consideraciones del pilar del implante y el contorno de la corona : contorno crítico y contorno subcrítico
  En: Odontología Restauradora & Periodoncia / Quintessence Books (QB); orp, v.14 no4. -- Vol. 14, no. 4 (2010). -- Barcelona : Quintessence, [s.f.]

  Las restauraciones con implantes de contorno adecuado necesitan una transición desde el diseño circunferencial de la cabeza del implante a la anatomía cervical correcta del diente. Siempre que haya suficiente espacio puede usarsew el pilar del implante para efectuar esta transición. Las restauraciones con implantes se han descrito cono de contorno excesivo, planas y de contorno insuficiente.
Se ha demostrado que el contorno excesivo en general da lugar a un posicionamiento apical del margen gingival, al mismo tiempo que un contorno insuficiente inducirá el efecto contrario. Sin embargo, estos términos se han aplicado de manera arbitraria y sin asignar los determinantes específicos. Además, es preciso redefinir el concepto de "contorno" según lo adaptado originalmente a partir de las restauraciones dentosoportadas por lo que respecta a la implantología. Dentro del pilar del implante y la corona se definen dos zonas diferentes como contorno crítico y contorno subcrítico. Cualquier alteración del contorno crítico o subcrítico puede modificar el perfil del tejido blando. El objetivo de este artículo es determinar el efecto de las modificaciones del contorno del pilar en esatas zonas sobre los tejidos blandos preimplante, incluído el nivel del margen gingival, la altura de las papilas. la arquitectura gingival, el perfil alveolar labial y el color gingival.
  ISSN: 11376635

  1. IMPLANTES DENTALES; 2. PILAR DEL IMPLANTE; 3. CORONA; 4. CONTORNO CRITICO I. González-Martín, Oscar II. Weisgold, Arnold III. Lee, Ernesto