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Catálogo Bibliográfico
Red de Bibliotecas UNNE

Red de Bibliotecas
Juárez García, Adriana
  Comparación de la adaptación marginal y microfiltración entre dos sistemas de zirconia, con un mismo medio cementante
  En: Revista Odontológica Mexicana / Facultad de Odontología de la UNAM (Facultad de Odontología de la UNAM); romUNAM. -- Vol. 15, no. 2 (Abril/Junio, 2011). -- México D. F. : Universidad Autónoma de México (UNAM), 2011

  Objetivo: Comparar la adaptación marginal y microfiltración de las cofias Lava y zirkon zahn® con un mismo medio cementante. Material y métodos: Veite premolares superiores extraídos fueron divididos en dos grupos. Un grupo fue preparado para recibir cofias de Lava y el otro para zirkon zahn®. Las cofias fueron elaboradas siguiendo los estándares de cada sistema, Fue medida la adaptación marginalñ en micras en ocho zonas antes y después de ser cementadas con RelyX U100. Después de termocicladas las muestras fueron embebidas en fucsina al 2% y seccionadas bucopalatino, para medir la microfiltración en micras en cada sección tanto en vestibular como en palatino. Resultados: Existió una diferencia estadísticasignificativa en la adaptación marginal entre los dos sistemas de zirconia. El sistema que reportó mejor adaptación fue Lava con valores de 19.7 um antes de cementar y 15.0 um después de cementar, el sistema con menor adaptación marginal fue zirkon zahn® con valores de 28.1 um antes de cementar y 22.8 um después de cementar. No hubo una diferencia significativa en Zirkon zahn ® de 319.8 um. Conclusión: El sistema que reportó mejor ajuste marginal. con una diferencia estadística significativa fue Lava , por lo que el sistema con menor ajuste marginal fue Zirkon zahn ®, sin embargo, no hubo diferencia significativa eb la microfiltación ebtre estos sitemas.
  ISSN: 1870199X

  1. ADAPTACION MARGINAL; 2. MICROFILTRACION; 3. ZIRCONIA; 4. CAD/CAM I. Arenas Alatorre, Jesús Angel II. Ríos Szalay, Enrique

  (9) Inv.: 12-R04033 S.T.: UAM v.15 no 2, ej.1 ; (9) Inv.: 12-R04034 S.T.: UAM v.15 no 2, ej.2
2 Ejemplares
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12-R04033 UAM v.15 no 2, ej.1
12-R04034 UAM v.15 no 2, ej.2

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Juárez García, Adriana
Comparación de la adaptación marginal y microfiltración entre dos sistemas de zirconia, con un mismo medio cementante
En: Revista Odontológica Mexicana / Facultad de Odontología de la UNAM (Facultad de Odontología de la UNAM); romUNAM. -- Vol. 15, no. 2 (Abril/Junio, 2011). -- México D. F. : Universidad Autónoma de México (UNAM), 2011

Objetivo: Comparar la adaptación marginal y microfiltración de las cofias Lava y zirkon zahn® con un mismo medio cementante. Material y métodos: Veite premolares superiores extraídos fueron divididos en dos grupos. Un grupo fue preparado para recibir cofias de Lava y el otro para zirkon zahn®. Las cofias fueron elaboradas siguiendo los estándares de cada sistema, Fue medida la adaptación marginalñ en micras en ocho zonas antes y después de ser cementadas con RelyX U100. Después de termocicladas las muestras fueron embebidas en fucsina al 2% y seccionadas bucopalatino, para medir la microfiltración en micras en cada sección tanto en vestibular como en palatino. Resultados: Existió una diferencia estadísticasignificativa en la adaptación marginal entre los dos sistemas de zirconia. El sistema que reportó mejor adaptación fue Lava con valores de 19.7 um antes de cementar y 15.0 um después de cementar, el sistema con menor adaptación marginal fue zirkon zahn® con valores de 28.1 um antes de cementar y 22.8 um después de cementar. No hubo una diferencia significativa en Zirkon zahn ® de 319.8 um. Conclusión: El sistema que reportó mejor ajuste marginal. con una diferencia estadística significativa fue Lava , por lo que el sistema con menor ajuste marginal fue Zirkon zahn ®, sin embargo, no hubo diferencia significativa eb la microfiltación ebtre estos sitemas.
ISSN: 1870199X

1. ADAPTACION MARGINAL; 2. MICROFILTRACION; 3. ZIRCONIA; 4. CAD/CAM I. Arenas Alatorre, Jesús Angel II. Ríos Szalay, Enrique

(9) Inv.: 12-R04033 S.T.: UAM v.15 no 2, ej.1 ; (9) Inv.: 12-R04034 S.T.: UAM v.15 no 2, ej.2
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